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超純水設備中除硅設計考量
二氧化硅對反滲透設計的影響很大，在濃水側濃度達到120mg/L即可結垢，在添加一些專用阻垢劑后，濃度可放寬至240mg/L，對系統回收率有明顯的限制。計算后濃度超過極限值需要考慮專門的預處理措施。常用措施為鎂劑除硅和偏鋁酸鈉除硅。
鎂劑（氧化鎂、氯化鎂等）除硅的運行pH通常在10-11之間，其聯合石灰投加（去除硬度）會有的更好的處理效果。
常溫下合適的投加量可將硅濃度降至20mg/L，投加量摩爾比可按10~20：1進行考慮，有條件最好試驗確定。
鎂劑除硅流程
偏鋁酸鈉除硅的運行pH要求較低，在6.5-8之間，更適合于水中沒有硬度，僅去除二氧化硅的情況。
如果超純水設備系統前端配置了樹脂軟化，后續的深度除硅可采用該方法，運行費用低。其出水二氧化硅濃度可降至15mg/L，甚至10mg/L，投加摩爾比可按2：1進行考慮。
偏鋁酸鈉除硅流程（后續接管式微濾）
當時還有其他方法如果提高進水溫度、提高進水pH等措施在一定程度上可提高硅的溶解度，但效果極其有限。
上一個: 純水設備投加殺菌劑的注意事項
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