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反滲透膜在EDI超純水系統中體現了哪些技術優勢？
2024年人們對電子技術和電子產品的需求也在增加。芯片等行業開始穩步發展。在與電子產業相關的產業發展中，我們也發現超純水系統市場也在蓬勃發展。
超純水作為電子工業中的清潔水，在芯片和半導體生產中至關重要。目前，傳統的超純水制備工藝需要定期進行樹脂再生，既消耗物質資源，又浪費勞動力。因此，人們開始使用新的EDI超純水系統來制備超純水，效果顯著，出水水質穩定。該超純水系統的核心過程是反滲透膜技術的應用。膜組件脫鹽率高，抗污染性高，硼、硅、鍺等元素去除率高，TOC溶解率低，降低后續系統處理壓力，提高后續系統的使用周期和效果。
EDI超純水系統中反滲透膜的技術優勢：
1、反滲透膜組件的脫鹽率很高，單級反滲透脫鹽率一般可穩定在97%以上，雙級反滲透脫鹽率一般在99%以上。
2、反滲透膜能有效去除細菌等微生物、有機物、金屬元素等無機物，出水水質優于其他方法。
3、應用反滲透膜組件制備超純水運行成本和人工成本低，減少環境污染。
4、減緩源水水質波動引起的產水水質變化，有利于生產中水質的穩定，對純水產品質量的穩定起到積極作用。
5、可減輕后續處理設備的負擔，從而延長后續處理設備的使用壽命。
以上是對半導體行業反滲透膜所需超純水設備技術優勢的介紹。反滲透膜生產超純水工藝非常成熟，水流量大，化學清洗周期長，出水水質穩定，特別適用于電子超純水EDI系統的預處理，可有效控制電子超純水系統的TOC含量。
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