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純水水處理工藝流程圖集
常用的一級RO+二級EDI+MB 電子I級超純水系統工藝配置圖
適合于源水硬度高,有機物含量高,電導率高(小于1000μs/cm),要求產水電阻率18~18.2MΩ·cm的超純水系統
常用的一級RO+二級EDI電子Ⅱ級超純水系統工藝配置圖
適合于源水硬度高,有機物含量高,電導率(小于1000μs/cm),要求產水電阻率15~18MΩ·cm的超純水系統
常用的一級RO+二級EDI電子+MB 電子I級超純水系統工藝配置圖
適合于源水硬度低,有機物含量低,電導率高(小于1000μs/cm),要求產水電阻率18~18.2MΩ·cm的超純水系統
常用的一級RO+二級EDI電子Ⅱ級超純水系統工藝配置圖
適合于源水硬度低,有機物含量低,電導率高(小于1000μs/cm),要求產水電阻率15~18MΩ·cm的超純水系統圖 7是常用的一級EDI全系統組成圖。
常用的產水水質穩定的二級RO+一級EDI+MB電子Ⅰ級超純水系統組成圖
適合于源水硬度低,有機物含量高,電導率 <1000μs/cm,即TDS < 500ppm時,要求產水電阻率18~18.2MΩ·cm的純水系統
常用的產水水質穩定的二級RO+一級EDI電子Ⅱ級超純水系統組成圖
適合于源水硬度低,有機物含量高,電導率 <1000μs/cm,即TDS < 500ppm時,要求產水電阻率15~18.0MΩ·cm的的純水系統。
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